Intel ввела в строй Fab 32: первый завод для крупносерийного производства по техпроцессу 45 нм

26 октября 2007, 18:55

Корпорация Intel официально объявила о начале выпуска процессоров нового поколения для настольных ПК, ноутбуков, серверов и других вычислительных устройств на первом заводе корпорации Intel для крупносерийного производства продукции с использованием 45-нм производственного процесса. Завод находится в г. Чэндлере, шт. Аризона.

Завод назван Fab 32, в его строительство было инвестировано $3 млрд. На заводе используется 45-нм производственный процесс Intel, основанный на достижениях корпорации в области изменения свойств некоторых областей транзисторов с целью уменьшения токов утечки. В транзисторах, созданных с помощью 45-нм техпроцесса, применяются диэлектрик high-k на основе гафния с высоким коэффициентом диэлектрической проницаемости (для изготовления изолирующего слоя затвора) и металлические материалы для изготовления самого затвора. Эти транзисторы настолько малы, что на площади, которую занимает точка в конце этой фразы, их может поместиться более 2 млн. Следовательно, корпорация Intel сможет выпускать быстродействующие и более энергоэффективные процессоры для настольных ПК, ноутбуков и серверов, а также процессоры со сверхнизким энергопотреблением для мобильных интернет-устройств (MID), устройств бытовой электроники и недорогих ПК. Эти процессоры не будут содержать свинца и галогенов. Официальное объявление первых 45-нм процессоров Intel запланировано на 12 ноября.

Intel

Fab 32 – шестой завод Intel, на котором используются 300-мм кремниевые подложки, и второй, который будет выпускать 45-нм процессоры. Корпорация Intel начала выпуск 45-нм процессоров на экспериментальном производстве в Орегоне, которое называется D1D, в январе. Теперь, после открытия предприятия Fab 32, будет запущено крупносерийное производство этой продукции. В следующем году планируется запустить еще два завода по изготовлению 45-нм процессоров с использованием 300-мм подложек: Fab 28 в г. Кирьят Гат, Израиль, и Fab 11Х в Рио-Ранчо, шт. Нью-Мексико. Использование 300-мм подложек позволяет сократить производственные затраты на один кристалл и общее количество используемых ресурсов.

Площадь “чистой комнаты” завода — 19805 м², а общая производственная площадь составляет более 110 тыс. м², что превышает площадь 17 полей для американского футбола вместе взятых. На заводе будут заняты более 1000 работников – рабочие, специалисты по автоматизации, тестировщики и технические руководители.

Fab 32 будет одним из самых экологически безопасных предприятий Intel. На нем предусмотрен ряд мер для экономии энергии и воды, которые подтверждают многолетнюю приверженность корпорации делу сохранения окружающей среды.

45-нм производственный процесс позволяет на 15% сократить выделение тепла в атмосферу. На Fab 32 будет использоваться инновационная программа Intel для Аризоны по экономии и повторному использованию воды, которая позволяет уменьшить потребление воды при производстве продукции более чем на 70%.

Корпорация Intel также объявила о своих намерениях получить для нового завода официальный сертификат соответствия системе Leadership in Energy and Environmental Design (LEED). Это будет первый завод, соответствующий новым критериям для предприятий такого типа. LEED – система экологической оценки зданий, разработанная американской организацией Green Building Council, которая устанавливает стандарты экологической безопасности в строительстве. Перед получением сертификата заявка рассматривается несколько месяцев. Получив сертификат, корпорация Intel продемонстрирует, что Fab 32 соответствует самым строгим экологическим стандартам, а также подтвердит свою давнюю приверженность защите окружающей среды.