Intel обнародовала планы по производству микросхем в Китае

27 марта 2007, 12:03

Корпорация Intel обнародовала свои планы по строительству новой фабрики по производству микросхем на базе 300-мм кремниевых подложек, которая будет располагаться на северо-востоке Китая в городе Далянь (провинция Ляонинь). На строительство новых производственных мощностей, которые получили название Fab 68, выделено 2,5 миллиарда долл. Это предприятие станет первой фабрикой Intel по производству микросхем в азиатском регионе.

“Китай является для нас одним из самых быстро растущих рынков. Мы придаем очень большое значение инвестициям в развивающиеся рынки, чтобы подготовить условия для будущего роста и улучшения обслуживания наших клиентов, – заявил Пол Отеллини, президент и главный исполнительный директор корпорации Intel. – Fab 68 станет нашей первой фабрикой за последние 15 лет, которая будет построена в новом месте. Корпорация Intel присутствует на рынке Китая уже более 22 лет. За это время общая сумма инвестиций в мощности по упаковке и тестированию продукции, а также в исследования и разработки превысила 1,3 миллиарда долл. Благодаря нашим капиталовложениям в строительство новой фабрики эта сумма достигнет почти 4 миллиардов долл., тем самым корпорация Intel станет одним из самых крупных иностранных инвесторов в Китае“.

Intel

С 1992 года – когда была построена фабрика Fab 10 в Ирландии – корпорация Intel еще ни разу не создавала производств с нулевого цикла в совершенно новых географических регионах. Строительство Fab 68 начнется уже в текущем году, а начало производства запланировано на первую половину 2010 года. Планируется, что первоначально на Fab 68 будут производиться наборы микросхем для поддержки работы основной продукции Intel – микропроцессоров.

Мэр города Далянь Ся Дерен отметил: “Так как наш город расположен на побережье, то это дает множество географических преимуществ. Кроме того, он располагает развитой инфраструктурой, что привлекает в наш регион иностранных инвесторов. Мы очень рады, что корпорация Intel выбрала именно наш город для строительства новой фабрики по производству микросхем. Эти инвестиции будут не только способствовать социальному и экономическому развитию Даляня, но и окажут значительное положительное воздействие на экономическую и промышленную структуру всего северо-восточного Китая“.

После завершения строительства Fab 68 вольется в сеть производственных мощностей Intel, которая к 2010 году будет насчитывать восемь фабрик по производству микросхем на основе 300-мм кремниевых подложек. Другие заводы, которые работают по этой технологии, находятся в США, Ирландии и Израиле. Использование 300-мм кремниевых подложек позволяет значительно увеличить объем производства полупроводниковых микросхем и снизить их себестоимость по сравнению с использованием традиционных 200-мм (восьмидюймовых) подложек. Увеличение диаметра подложек позволяет сократить производственные затраты в расчете на одну микросхему и снизить общее количество используемых ресурсов. Например, на фабриках, которые выпускают продукцию на базе производственной технологии с применением 300-мм кремниевых подложек, расходуется на 40% меньше электроэнергии и воды на одну микросхему по сравнению с производствами, на которых используются 200-мм подложки.